GAGG(Ce) 신틸레이터
세륨 도핑 가돌리늄 알루미늄 갈륨 가넷(GAGG:Ce)은 탁월한 특성으로 잘 알려진 고성능 무기 신틸레이터입니다. 최대 54,000 photons/MeV의 광수율과 540 nm의 발광 피크로 실리콘 광검출기와 완벽하게 정합됩니다. 높은 밀도(6.63 g/cm³), 빠른 감쇠 시간(90 ns), 비조해성 특성으로 의료 영상, 보안 검색, 고에...
- 제조사OST Photonics
- 분류신틸레이터
- 납기주문 건별 제시
- 맞춤 제작도면에 따른 치수, 결정 방위 및 표면 가공
GAGG(Ce) 신틸레이터 (GAGG(Ce) 신틸레이션 결정)
세륨 도핑 가돌리늄 알루미늄 갈륨 가넷(GAGG:Ce)은 탁월한 특성으로 잘 알려진 고성능 무기 신틸레이터입니다. 최대 54,000 photons/MeV의 광수율과 540 nm의 발광 피크로 실리콘 광검출기와 완벽하게 정합됩니다. 높은 밀도(6.63 g/cm³), 빠른 감쇠 시간(90 ns), 비조해성 특성으로 의료 영상, 보안 검색, 고에너지 물리 응용 분야에서 뛰어난 성능을 발휘합니다
OST Photonics는 요청에 따라 GAGG(Ce) 신틸레이션 결정을 공급할 수 있습니다. 고객의 응용 요구를 충족하기 위해 다양한 설계 옵션과 여러 유형의 GAGG(Ce) 결정 소재를 제공합니다.
용도
핵의학 영상
고에너지 물리학
산업 및 보안 검사
휴대용 방사선 검출
특징
높은 광출력: 30,000 광자/MeV 이상 방출
~540 nm의 발광 피크: 실리콘 광전자증배소자(SiPM)와 잘 정합합니다
높은 밀도(~6.63 g/cm³)
비조해성 및 내방사선성
빠른 감쇠 시간(~150 ns)
생산 및 공급 능력
최대 크기: ɸ60mm x 200mm
제공 품목: 모놀리식 결정, 신틸레이션 스크린, 픽셀 어레이
GAGG(Ce) 신틸레이터의 종류
| 유형 | 광출력 | 감쇠 시간 | 잔광 |
| 고광출력 타입 | 54000 photons/keV | <150 ns | ≤0.10%@20ms |
| 저잔광 타입 | 45000 photons/keV | <70 ns | ≤0.02%@20ms |
| 고속 감쇠 시간 타입 | 30000 photons/keV | <50 ns | ≤0.10%@20ms |
| 밸런스형 | 42000 photons/keV | <90 ns | ≤0.10%@20ms |
GAGG(Ce) 신틸레이터의 신틸레이션 스크린 설계 옵션
자립형 초박형 신틸레이션 스크린입니다.
초박형 신틸레이션 스크린은 광학 접착제로 기판에 접합하여 더 우수한 광학 판독 성능을 얻을 수 있습니다.
신틸레이션 스크린은 취급을 쉽게 하기 위해 프레임(알루미늄 또는 스테인리스강)에 삽입할 수 있습니다.
빔 확인이 용이하도록 스크린 표면에 그리드, 십자선, 스케일 등의 맞춤 마킹을 제공할 수 있습니다.
요청에 따라 스크린 표면에 반사 코팅(Al, Au, Ag 등), AR 코팅, 확산 도장(TiO2, Al2O3), 도전성 코팅(Al, ITO, C) 등 다양한 코팅을 적용할 수 있습니다.
특성
| 제품 유형 | 고광출력 타입 | 저잔광 타입 | 고속 감쇠 시간 타입 | 밸런스형 |
| 신틸레이션 감쇠 시간(ns) | ＜150 | ＜70 | ＜50 | ＜90 |
| 발광 피크 파장 (nm) | 520 | 520 | 520 | 520 |
| 굴절률 (피크 파장) | 1.9 | 1.9 | 1.9 | 1.9 |
| 밀도 (g/cm3) | 6.6 | 6.6 | 6.6 | 6.6 |
| 광출력 (광전자 /keV) | 54 | 45 | 30 | 42 |
| 에너지 분해능 ( 137Cs) (5x5x5 mm) | 6% | 6% | 7% | 6% |
| 내방사선성 (rad) | 10^5 | 10^5 | 10^5 | 10^5 |
| 결정 구조 | 큐브 | 큐브 | 큐브 | 큐브 |
| 벽개면 | 아니요 | 아니요 | 아니요 | 아니요 |
| 조해성 | 아니요 | 아니요 | 아니요 | 아니요 |
| 모스 경도 | 8 | 8 | 8 | 8 |
| 잔광 | ≤0.10%@20ms | ≤0.02%@20ms | ≤0.10%@20ms | ≤0.10%@20ms |
GAGG(Ce) 신틸레이터 견적 요청
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