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Cintilador encapsulado

Substrato de ZnO

O óxido de zinco (ZnO) é um bom substrato para filmes finos de GaN. Tem uma grande energia de ligação do excitão de 60 MeV e uma largura de banda de 3.73 eV à temperatura ambiente,...

Substrato de ZnO

O óxido de zinco (ZnO) é um bom substrato para película fina de GaN. Tem uma grande energia de ligação do excitão de 60 MeV e uma largura de banda de 3.73 eV à temperatura ambiente, o que o torna um material luminescente para luz ultravioleta e visível. Devido à transparência na região visível, ao grande coeficiente de acoplamento eletromecânico e às propriedades de adsorção e dessorção de moléculas de gás na sua superfície, prevê-se que seja utilizado...

  • FabricanteOST Photonics
  • CategoriaWafer e substrato de cristal
  • Artigos em stock4 especificações indicadas
  • Prazo de entregaOrçamentado por encomenda
  • PersonalizaçãoDimensão, orientação e acabamento superficial conforme desenho

O óxido de zinco (ZnO) é um bom substrato para filme fino de GaN. Possui uma grande energia de ligação excitônica de 60 MeV e uma largura de banda de 3,73 eV à temperatura ambiente, o que o torna um material luminescente para luz ultravioleta e visível. Devido à transparência na região visível, ao elevado coeficiente de acoplamento eletromecânico e às propriedades de adsorção e dessorção de moléculas de gás na sua superfície, prevê-se a sua utilização em limitadores de energia com alta energia de pico, substratos de GaN de grandes dimensões e alta qualidade, comunicações sem fios acima de 5GHz no futuro, equipamentos de campo elétrico elevado, dispositivos eletrónicos de alta temperatura e alta energia, etc.

A OST Photonics fornece substratos de ZnO de alta qualidade para investigadores e indústrias. A orientação cristalina, o tamanho e a espessura podem ser personalizados de acordo com os seus requisitos.

Características

  • Elevada energia de ligação do excitão de 60 MeV
  • Largura de banda ampla de 3,73 eV
  • Elevada transparência na região visível
  • Coeficiente de acoplamento eletromecânico elevado

Aplicações

  • Substrato para película fina de GaN
  • Comunicações sem fios
  • Dispositivos eletrónicos de alta temperatura e alta energia
  • Equipamentos de campo eléctrico elevado

Capacidade de processamento

  • Orientação: <0001>, <11-20>, <10-10>, etc.
  • Dimensão: 5x5mm, 10x10mm, 15x15mm, 20x20mm, 25x25mm, etc.
  • Espessura: 0.5mm, 1.0mm, etc.
  • Artigos disponíveis: substratos, blanks e ópticas personalizadas

Especificações e propriedades dos substratos de ZnO

Sistema cristalinoHexagonal
Método de crescimentoHidrotermal
Constante de rede cristalinaa=3.252 Å c=5.313 Å
Ponto de fusão1975 ℃
Densidade5.7 g/cm3
Dureza4 Mohs
Coeficiente de expansão térmica//a: 6.5×10^-6 /℃ //c: 3.7×10^-6 /℃
Calor específico0.125 cal/g.m
Constante termoelétrica1200 mv/k @ 300 ℃
Condutividade térmica0.006 cal/cm/k
Gama de transmissão>50%@0.4-0.6 um (2mm)
Orientação<0001>,<11-20>,<10-10>, etc.
Tolerância de orientação±0.5° ou melhor
Dimensão5x5mm, 10x10mm, 15x15mm, 20x20mm, 25x25mm, etc.
Tolerância dimensional±0.1 mm ou melhor
Espessura0.5mm, 1.0mm, etc.
Tolerância de espessura±0.05 mm ou melhor
Acabamento superficialPolido de um lado (SSP)/polido dos dois lados (DSP)
Rugosidade superficialRa<5Å (5µmx5µm)
EmbalagemSaco limpo de classe 100, sala superlimpa de classe 1000

Artigos disponíveis de substratos de ZnO

As especificações seguintes constam do nosso catálogo original. Dimensões, orientações e acabamentos de superfície personalizados são produzidos de acordo com o seu desenho.

Substratos monocristalinos de ZnO de 5 mm x 5 mm x 0.5 mm, orientação: (100), polidos em ambas as faces (10 peças)Ver
Substratos monocristalinos de ZnO de 5 mm x 5 mm x 0.5 mm, orientação: (100), polidos numa face (10 peças)Ver
Substratos monocristalinos de ZnO de 10 mm x 10 mm x 0.5 mm, orientação: (100), polidos em ambas as faces (5 peças)Ver
Substratos monocristalinos de ZnO de 10 mm x 10 mm x 0.5 mm, orientação: (100), polidos numa face (5 peças)Ver

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Envie-nos as suas dimensões, a orientação, o acabamento superficial e a quantidade. Os nossos engenheiros respondem com uma proposta técnica e um preço.

Perguntas frequentes

Perguntas dos compradores

Qual é o sistema cristalino do substrato ZnO?
O sistema cristalino do substrato de ZnO é Hexagonal.
Qual é o método de crescimento do substrato ZnO?
O método de crescimento do substrato ZnO é hidrotérmico.
Qual é a constante da rede cristalina do substrato ZnO?
A constante de rede cristalina do substrato de ZnO é a=3.252 Å c=5.313 Å.
Qual é o ponto de fusão do substrato ZnO?
O ponto de fusão do substrato ZnO é 1975 ℃.
Como posso solicitar um orçamento de Substrato ZnO?
Envie a quantidade, a especificação e o seu porto de destino para a Jiaxing AOSITE Photonics Technology Co.,Ltd. por email ou telefone. Este site não tem formulário de consulta, pelo que a sua mensagem chega diretamente a um engenheiro e não a uma fila de contactos.
É possível fabricar substrato de ZnO conforme uma especificação personalizada?
As dimensões e os acabamentos personalizados são orçamentados caso a caso com base no seu desenho ou especificação escrita. Envie o que necessita e a fábrica confirmará o que é exequível, e com que tolerância, antes de efetuar a encomenda.
Quem fabrica o substrato de ZnO?
Jiaxing AOSITE Photonics Technology Co.,Ltd., que opera sob a designação OST Photonics, fabrica em Jiaxing, Zhejiang, China desde 2010.

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