HD-CPPC-T
صفيحة خلفية شفافة عالية العزل
لوحدات TOPCon وHJT والبيروفسكايت، حيث تمثّل الحساسية للرطوبة حدّ الموثوقية.
عرض المواصفات →
مواد تغليف الخلايا الكهروضوئية
صفائح خلفية منخفضة نفاذ بخار الماء
بنى شفافة عالية العزل وأخرى بقاعدة ألمنيوم عند 10⁻²–10⁻³ غ/م²·يوم.
طريقتان لإبقاء الرطوبة خارج الوحدة. الصفيحة الخلفية الشفافة عالية العزل تحافظ على مكسب الوجهين ببقائها شفّافة، أما الصفيحة الخلفية ذات القاعدة الألمنيومية فتضيف طبقة معدنية من 15 إلى 30 ميكرومتر ولبّاً مقاوماً للهب حيث يتقدّم العزل المطلق على التوليد من الخلف.
سلاسل أخرى ضمن مواد تغليف الخلايا الكهروضوئية
منتجان في هذه السلسلة
HD-CAPC
صفيحة خلفية بقاعدة ألمنيوم
طبقة ألمنيوم من 15 إلى 30 ميكرومتر ولبّ مقاوم للهب، بسماكة إجمالية 300 ميكرومتر.
عرض المواصفات →هل تحتاج ورقة بيانات سلسلة معدّل نفاذ بخار الماء المنخفض؟
اذكر رمز المنتج والسوق الذي تُشحن إليه الوحدات، وستصلك ورقة البيانات والشهادة المطابقة في الردّ نفسه.